PVD（Physical Vapor Deposition）技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體（或等離子體）過(guò)程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術(shù)。用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱(chēng)為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。 

濺射鍍膜
濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn)，一般由靶坯和背板組成。靶坯屬于濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標材料。靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環(huán)境內完成濺射過(guò)程。超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。

按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類(lèi)型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應用量最大的 PVD鍍膜材料。

高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節，其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節。 上游的金屬提純主要從自然界重點(diǎn)金屬礦石進(jìn)行提純，一般的金屬能達到 99.8%的純度，濺射靶材需要達到 99.999%的純度。靶材制造環(huán)節首先需要根據下游應用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設計，然后進(jìn)行反復的塑性變形、熱處理來(lái)控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標，再經(jīng)過(guò)水切割、機械加工、金屬化、超生測試、超聲清洗等工序。 濺射靶材制造所涉及的工序精細且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。 此環(huán)節是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對生產(chǎn)設備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節，濺射薄膜的品質(zhì)對下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。

在濺射鍍膜過(guò)程中，濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應，濺射機臺專(zhuān)用性強、精密度高，市場(chǎng)長(cháng)期被美國、日本跨國集團壟斷，主要設備提供商包括 AMAT（美國）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國）、ULVAC（日本）等行業(yè)內知名企業(yè)。

真空蒸發(fā)鍍膜

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來(lái)獲得薄膜的一種技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱(chēng)為蒸鍍材料。蒸發(fā)鍍膜最早由 M.法拉第在 1857年提出，經(jīng)過(guò)一百多年的發(fā)展，現已成為主流鍍膜技術(shù)之一。

真空蒸發(fā)鍍膜系統一般由三個(gè)部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來(lái)支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時(shí)需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應用廣泛的鍍膜技術(shù)，主要應用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料，氧化物蒸發(fā)料，氟化物蒸發(fā)料等。

蒸鍍材料種類(lèi)

金屬及非金屬顆粒 ：鋁蒸發(fā)料、鎳蒸發(fā)料、銅蒸發(fā)料、銀蒸發(fā)料、鈦蒸發(fā)料、硅蒸發(fā)料、釩蒸發(fā)料、鎂蒸發(fā)料、錫蒸發(fā)料、鉻蒸發(fā)料、銦蒸發(fā)料、銀銅蒸發(fā)料、金蒸發(fā)料、微晶銀粉等。
氧化物 ：鈦鉭合金、鋯鈦合金、硅鋁合金、三氧化二鋁、二氧化鋯、五氧化三鈦、石英環(huán)、石英片、氧化鉺、鈦酸鑭等
氟化物 ：氟化鎂、氟化鏑、氟化鑭等

蒸鍍材料主要工藝流程包括混料，原料預處理，成型，燒結和檢測等。將配制好的原料經(jīng)過(guò)機械混合達到均勻分散（混料），然后進(jìn)行常溫或高溫處理（原料預處理）來(lái)提高材料的純度，細化顆粒的粒度，激發(fā)材料的反應活性，降低材料燒結溫度。接下來(lái)經(jīng)過(guò)機械方式將材料加工至達到所需規格（成型）。成型后將材料在高溫下燒結，使陶瓷生坯固體顆粒的相互鍵聯(lián)，最后成為具有某種顯微結構的致密多晶燒結體的過(guò)程（燒結）。待蒸鍍材料生產(chǎn)完后，采用蒸發(fā)鍍膜設備對材料的性能進(jìn)行檢測，檢查產(chǎn)品性能指標是否合格。

真空鍍膜材料工藝流程
原料粉末——配料——混料——原料預處理——成型——預燒——真空燒結——分揀——真空包裝

濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對比：
濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類(lèi)型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應用量最大的 PVD 鍍膜材料。 蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來(lái)看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

全球范圍內，日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)等資金實(shí)力雄厚、技術(shù)水平領(lǐng)先、產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗豐富的跨國公司居于全球高純?yōu)R射靶材行業(yè)的領(lǐng)導地位，屬于濺射靶材的傳統強勢企業(yè)，占據全球濺射靶材市場(chǎng)的絕大部分市場(chǎng)份額，主導著(zhù)全球濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。