PVD產(chǎn)品優(yōu)勢、特點(diǎn)介紹:
PVD 技術(shù)(物理氣相沉積Physical Vapor Deposition) ，是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術(shù)，它具有鍍膜層致密均勻、附著(zhù)力強、繞射性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)，是表面處理工程領(lǐng)域較佳的選擇。PVD 技術(shù)包括真空蒸鍍、濺射膜和離子膜。PVD 本身鍍膜過(guò)程是高溫狀態(tài)下，等離子場(chǎng)下的輝光反應，亦是一個(gè)高凈化處理過(guò)程；鍍層的原材料有鈦、鉻、不銹鋼、石墨、鈦鋁等根據客戶(hù)的需要來(lái)加以選擇，PVD技術(shù)是一種真正無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法。采用磁控離子濺射鍍及多弧離子鍍等先進(jìn)綠色環(huán)保真空鍍膜工藝，并與其它表面處理效?果：如拉絲、高光（機械拋光）、麻面（噴砂）、亞光、雷雕等相結合大大增加了產(chǎn)品的附加值。
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