經(jīng)常會(huì )有客戶(hù)問(wèn)何為PVD真空鍍膜技術(shù)？蘇州百騰鍍膜工藝主要分為：CVD鍍膜工藝和PVD真空鍍膜工藝。之前，小編已有單獨介紹CVD鍍膜工藝的，哪么，本次就來(lái)簡(jiǎn)單介紹：何為PVD真空鍍膜技術(shù)？蘇州百騰科技PVD鍍膜技術(shù)。 PVD真空鍍膜技術(shù)歷史起源
真空涂層技術(shù)在上世紀六十年代オ出現，將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應用于使硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行。到了上世紀七十年代末，開(kāi)始出現因：
(1)其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問(wèn)題，有利于環(huán)保；
(2)其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿(mǎn)足裝飾性的各種需要；
(3)可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現了低成本、高收益的效果；
(4)此外，PVD涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。
真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡(jiǎn)單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開(kāi)始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?jiàn)，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現互補，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，再利用多弧鍍達到穩定的表面涂層顏色的新方法。
2.PVD真空鍍膜技術(shù)原理
PVD( Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍;通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。
真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子東轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù)。
濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì )被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動(dòng)方向隨機，沉積的膜易于均勻。
離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。
一、PVD操作工藝步驟
1、清洗工件：接通直流電源，氬氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；
2、鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化；
3、 鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞以及高壓電場(chǎng)后，高速沖向工件；
4、鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能，高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。
二、PVD鍍膜技術(shù)優(yōu)勢
1.PVD鍍膜技術(shù)特點(diǎn)
1）、PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；
2）、典型的PVD涂層加工溫度在250℃-450℃之間；
3）、涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為3-6小時(shí)；
4）、PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm-5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm-1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；
5）、PVD技術(shù)不僅提高了 鍍膜與基體材料的結合強度，涂層耗材種類(lèi)繁多，還有多元復合涂層，形成不同的顏色的表面效果。
6）、目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色、古銅色、灰色、黑色、灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進(jìn)行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。
2.PVD鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)
1）鍍層附著(zhù)性能好
普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生，可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固，膜層均勻，致密。
2）繞鍍能力強
離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。
3）鍍層質(zhì)量好
離子鍍的鍍層組織致密、無(wú)針孔、無(wú)氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。像螺紋一類(lèi)的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(cháng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。
4）清洗過(guò)程簡(jiǎn)化
現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著(zhù)力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。
5）可鍍材料廣泛
離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。
PVD鍍膜技術(shù)其功應用，主要是裝飾鍍膜和工具鍍膜。對于幫助企業(yè)產(chǎn)品提升產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性和保持化學(xué)穩定性等特點(diǎn)，可謂功不可沒(méi)。
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