PVD鍍膜技術(shù)所制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在刀具領(lǐng)域的成功應用引起了各大制造業(yè)的高度重視，人們在開(kāi)發(fā)高性能且可靠性涂層設備的同時(shí)，也在各個(gè)制造業(yè)領(lǐng)域中進(jìn)行了更加深入的涂層應用研究。

首先，來(lái)跟著(zhù)小編認識一下什么PVD？

PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)又為三大類(lèi)，分別是真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。

PVD鍍膜技術(shù)它的原理呢，是在真空條件下，通過(guò)大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

小編在給大家介紹一下磁控濺射鍍膜，磁控濺射鍍膜是在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng)，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數量級，填充密度高達98%，折射率高且穩定。

小編認為PVD鍍膜與傳統化學(xué)電鍍相比唯一的相同點(diǎn)是，都是通過(guò)一定的方式將一種材料覆蓋在另一種材料的表面。但兩者也有不同點(diǎn)，PVD膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多，而且不會(huì )產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

PVD真空鍍膜也在塑料行業(yè)上有著(zhù)廣泛的使用，因為塑料具有容易成型的特點(diǎn)，所以他的成本很低，質(zhì)量也很輕，具有耐腐蝕等特點(diǎn)，通過(guò)PVD真空鍍膜可以使塑料的表面具有導電的性能，而且PVD涂層也能夠減少它的吸水率，等鍍膜完成后，針孔也會(huì )隨著(zhù)減少，吸水率也會(huì )降低，經(jīng)過(guò)鍍膜的材料表面的金屬光澤被彩色化，裝飾性能也具有很大的提升。

目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，黑色，灰黑色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程的相關(guān)參數，就可以鍍出我們所需要的顏色;鍍膜結束后使用相關(guān)的儀器對顏色進(jìn)行測量，使顏色得以量化，確定所鍍出的顏色能否滿(mǎn)足我們的要求。