PVD技術(shù)是近年來(lái)出現的一種新技術(shù)，制備的薄膜具有硬度高、摩擦系數低、耐磨性好、化學(xué)穩定性好等優(yōu)點(diǎn)。首先，在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視。在研制高性能、高可靠性涂層設備的同時(shí)，對硬質(zhì)合金和陶瓷刀具進(jìn)行了更深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝具有較低的加工溫度，在600℃以下對刀具材料的彎曲強度沒(méi)有影響；薄膜的內應力狀態(tài)為壓應力，更適合硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無(wú)不良影響，符合現代綠色制造的發(fā)展方向。目前，PVD涂層技術(shù)已廣泛應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車(chē)削刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，而且使涂層成分由第 一代tin發(fā)展為tic、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、tialcn、tin-AlN、CNx、DLC和ta-C復合涂層。

1:什么是PVD？真空鍍膜技術(shù)

PVD是物理氣相沉積（physical vapor deposition）的英文縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”。是指在真空條件下用物理方法將材料沉積在工件上的薄膜制備技術(shù)。

2:什么是PVD涂層？什么是PVD涂層機？

物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要分為三類(lèi)：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。與PVD技術(shù)的三大類(lèi)相比，相應的真空鍍膜設備包括真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展快，已成為表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD涂層是真空離子涂層；一般來(lái)說(shuō)，PVD鍍膜機是指真空離子鍍膜機。

3:PVD涂層的原理是什么？

離子鍍（PVD）技術(shù)的原理是在真空條件下采用低壓大電流電弧放電技術(shù)。目標被蒸發(fā)，蒸發(fā)的物質(zhì)被氣體放電電離。在電場(chǎng)作用下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

4:PVD涂層與傳統的化學(xué)鍍（水鍍）相比有什么優(yōu)點(diǎn)？

PVD涂層與傳統化學(xué)鍍的相似之處在于兩者都屬于表面處理的范疇，都能使一種材料以某種方式覆蓋另一種材料的表面。兩者的區別在于：PVD涂層與工件表面的附著(zhù)力較大，涂層硬度較高，耐磨性和耐腐蝕性較好，涂層性能較穩定；PVD涂層可鍍上更廣泛的膜型，可鍍上多種顏色的膜更美觀(guān)；PVD涂層不會(huì )產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)。