PVD真空鍍膜是一種物理氣相沉積法，是指在真空環(huán)境下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上面的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜技術(shù)分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍三種，都可稱(chēng)之為PVD鍍膜。