真空鍍膜機
        依照薄膜原理區分:能夠分為濺射鍍膜、離子鍍膜、蒸騰鍍膜和化學(xué)氣相堆積鍍膜。依照運用目標能夠分為光學(xué)鍍膜、卷繞鍍膜、裝修鍍膜、太陽(yáng)能集熱管鍍膜、刀具鍍膜、修建鍍膜、導電鍍膜等等。 
        真空蒸騰鍍膜機
        蒸騰鍍膜設備在中國一切鍍膜設備中是最先開(kāi)發(fā)成功的鍍膜設備，20世紀50年代中國就現已研發(fā)成功，蒸騰鍍膜設備的品種繁多，有用于鍍制光學(xué)薄膜的光學(xué)鍍膜設備，首要用于光學(xué)器材，激光器材以及微電子器材等，還有選用蒸騰鍍膜原理制作的卷繞鍍膜設備，用于裝修裝修、電子器材包裝等各行各業(yè)。
        濺射鍍膜機
        離子靶材，使其被濺射出來(lái)堆積到基片上構成薄膜。濺射鍍膜設備可鍍制ITO導電膜、介質(zhì)膜、半導體膜、金屬膜、磁性膜、高溫超導膜、單晶膜、裝修膜等多種薄膜，如用于電子職業(yè)大規模集成電路和光盤(pán)、磁盤(pán)薄膜的鍍制。用于修建職業(yè)的幕墻玻璃薄膜，電子職業(yè)的電容器薄膜，航空航天器中的固體光滑膜，動(dòng)力方面的太陽(yáng)能電池，以及氣體、包裝、紅外技能等多個(gè)職業(yè)。
        離子鍍膜機
        離子鍍膜設備可分為電弧離子鍍膜、射頻放電離子鍍膜、空心陰極離子鍍等等，離子鍍由其鍍膜原理決議了其堆積速度快，鍍層質(zhì)密，膜層附著(zhù)性好等特色。被廣泛用于東西、模具等職業(yè)，可鍍制金屬膜、硬膜、仿金膜等等。 
        化學(xué)氣相堆積設備
        化學(xué)氣相堆積設備是以化學(xué)反應的辦法制膜，可用于鍍制外表保護膜以及半導體和電子資料。
        離子束刻蝕設備
        刻蝕作為半導體工業(yè)中的超精細加工技能，跟著(zhù)大規模集成電路的集成度的添加而變成不行短少的重要設備。離子束刻蝕技能與其他化學(xué)腐蝕、等離子體濺射等技能比較，對加工資料沒(méi)有選擇性、能夠進(jìn)行超微細加工，能夠刻蝕十分精細的溝槽，刻蝕的圖形邊際明晰，精確度高。離子束刻蝕設備可分為立式和臥式，國產(chǎn)設備真空體系首要以油分散泵加水冷擋板為主，國外較多選用低溫泵抽氣體系。
        真空爐
        真空爐在中國的開(kāi)展起始于20世紀50年代末。第一臺10公斤真空感應爐于1958年開(kāi)端在沈陽(yáng)研發(fā)，1960年經(jīng)過(guò)判定。目前中國出產(chǎn)的真空爐品種繁多，大致可分為冶金爐和熱處置爐,其間冶金爐有：真空電阻爐、真空燒結爐、真空電弧爐、真空感應爐、單晶爐以及真空釬焊設備等；真空熱處置爐包含：真空淬火爐、回火爐、退火爐、滲碳爐、輝光離子氮化爐等。 
        真空電阻爐
        真空電阻爐是在真空條件下，使用電阻來(lái)加熱工件或資料。首要用于生動(dòng)、難溶金屬或某些磁性合金退火和真空除氣。電阻爐的品種有許多，依照不一樣的辦法可分為立式、臥式、內熱式、外熱式等等。
        真空燒結爐
        真空燒結爐首要用于硬質(zhì)合金、陶瓷資料、磁性資料、稀有難熔資料、金屬粉末制品、光電元件等資料的燒結處置。關(guān)于燒結處置的資料不一樣，真空燒結爐的品種有可達2 000℃以上的高溫燒結爐和真空度較高的高真空燒結爐。
        真空電弧爐
        真空電弧爐是使用弧光放電發(fā)生的電弧使工件或資料執熔?？捎糜谌蹕鍟?huì )仝銅 法滁金屬銑鋯和難溶金屬。真空電弧爐的品種能夠分為自耗爐、非自耗爐及凝殼爐等等。
        真空感應爐
        真空感應爐是使用電磁感應的辦法將爐內的坩堝加熱，在真空狀態(tài)下進(jìn)行金屬和合金的熔煉?？蓪毢辖?、磁性資料、活性金屬和難溶金屬進(jìn)行熔煉。  
        真空鍍膜機按照真空爐功能來(lái)分類(lèi)的占少數，大多數還是以行業(yè)來(lái)分類(lèi)。不過(guò)以行業(yè)單位，按真空爐來(lái)分類(lèi)的，那就比較多了。