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  1. 真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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    PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區別解讀

    時(shí)間:2020-09-04    點(diǎn)擊數:

    在手機蓋板領(lǐng)域,PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來(lái)越廣,無(wú)論在金屬、玻璃、陶瓷及復合材料后蓋上,都需要PVD鍍膜,來(lái)提升手機蓋板的顏值及逼格,那么如何通過(guò)鍍膜來(lái)提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢?有哪些主流的工藝?今天我們來(lái)了解一下。

    一、手機非金屬材料如何通過(guò)PVD鍍膜來(lái)提升靚麗與品位?

    1. 玻璃內表面鍍反光膜

    2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜,增加手感,內表面鍍顏色膜

    3. 復合板材鍍反藍光(冰焰藍)

    4. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

    二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區別

    PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天,我們主要來(lái)比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。

    蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動(dòng)能太低,填充密度太低。

    電子束蒸發(fā)的不穩定性及其內在機理:

     

    影響種類(lèi)問(wèn)題點(diǎn)內在機理
    溫度成膜溫度影響產(chǎn)品顏色溫度高填充密度高,漂移少
    真空室氧化能力的影響大清洗前波長(cháng)偏長(cháng),之后偏短*水蒸氣可以認為就是氧氣。
    *鍍膜速度直接影響氧化能力,
    即膜層中金屬或低價(jià)氧化物的比例。
    *從坩堝里蒸發(fā)出來(lái)的物質(zhì)是高價(jià)氧化物、
    低價(jià)氧化物和金屬單體的混合物,更多的金屬
    單體或低價(jià)氧化物在充大氣后會(huì )俘獲更多的
    氧原子,使膜層致密。
    空氣濕度大時(shí)膜層顏色不好控制

    開(kāi)爐時(shí)間長(cháng)波長(cháng)偏長(cháng)

    鍍膜慢波長(cháng)偏長(cháng)

    膜料分解狀況的影響貌似電子槍光斑大小有影響*光斑位置影響光斑大小。
    *燈絲變形也會(huì )帶來(lái)光斑大小的變化。
    *掃描足夠快時(shí)是面蒸發(fā),慢時(shí)依舊點(diǎn)蒸發(fā),
    這當然也相當于“光斑大小”問(wèn)題。
    *光斑小,蒸發(fā)區域溫度高,材料分解嚴重,
    金屬單體和低價(jià)氧化物比例更高。
    貌似光斑位置也有影響

    貌似燈絲變形也有影響

    貌似掃描快慢也有影響

    ………

     

    磁控濺射鍍膜,通過(guò)在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng),使氬氣電離,并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊,靶材原子溢出并以數十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面,原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數量級,填充密度高達98%,折射率高且穩定。  



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