PVD(Physical Vapor Deposition)---物理氣相沉積：指利用物理過(guò)程實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過(guò)程。

CVD是Chemical Vapor Deposition的簡(jiǎn)稱(chēng)，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機材料的方法。

PVD技術(shù)出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開(kāi)發(fā)高性能、高可靠性涂層設備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類(lèi)刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對刀具材料的抗彎強度無(wú)影響；薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無(wú)不利影響，符合現代綠色制造的發(fā)展方向。

當前PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車(chē)刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

CVD例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機材料的方法。