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  1. 真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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    PVD工藝的目的是什么?

    時(shí)間:2020-08-16    點(diǎn)擊數:

    濺射法利用帶有電荷的離子在電場(chǎng)中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn),將離子引向欲被濺射的物質(zhì)做成的靶電極。在離子能量合適的情況下,入射離子在與靶表面原子的碰撞過(guò)程中將后者濺射出來(lái)。這些被濺射出來(lái)的原子帶有一定的動(dòng)能,并且會(huì )沿著(zhù)一定的方向射向襯底——玻璃基板,從而沉積在基板表面形成薄膜。

    ?在上述薄膜沉積的過(guò)程中,離子的產(chǎn)生過(guò)程與等離子體的產(chǎn)生或氣體的放電現象密切相關(guān)。?

    本文網(wǎng)址:http://m.jmsrh.cn/news/441.html

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