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18913268389湯生
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PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理過(guò)程實(shí)現物質(zhì)轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過(guò)程。它的作用是可以是某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能! PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
PVD技術(shù)出現于,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視,人們在開(kāi)發(fā)高性能、高可靠性涂層設備的同時(shí),也在硬質(zhì)合金、陶瓷類(lèi)刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比,PVD工藝處理溫度低,在600℃以下時(shí)對刀具材料的抗彎強度無(wú)影響;薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力,更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無(wú)不利影響,符合現代綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車(chē)刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。
PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,涂層成分也由第一代的TiN發(fā)展為T(mén)iC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層。
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