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18913268389湯生
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PVD涂層技術(shù)真空鍍膜流程原理及特點(diǎn)可以歸納如下:
一、PVD涂層技術(shù)真空鍍膜流程原理
PVD(物理氣相沉積)涂層技術(shù)真空鍍膜的基本原理是在真空條件下,利用物理手段將固體靶材蒸發(fā)或濺射,使得蒸發(fā)的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。這一過(guò)程主要包括以下幾個(gè)步驟:
前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾,確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔。
鍍膜工藝:
抽真空:將真空室內的殘余氣體抽走。
加熱烘烤:爐體和工件同時(shí)加熱,加速殘余氣體的釋放。
漏率測試(壓升率測試):測試爐體的漏氣率和放氣率,確保真空環(huán)境條件滿(mǎn)足鍍膜標準。
轟擊清洗:去除工件表面的雜質(zhì),露出新鮮表面。
鍍膜:通過(guò)蒸發(fā)或濺射的方式,將蒸發(fā)的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。
冷卻出爐:避免工件氧化變色。
后處理工藝:清洗、拋光等,確保鍍膜質(zhì)量。
二、PVD涂層技術(shù)真空鍍膜的特點(diǎn)
膜層附著(zhù)力強:PVD涂層與工件表面結合力強,耐磨性好、耐腐蝕優(yōu)異。
性能穩定:涂層致密性好,耐腐蝕性能強悍,涂層正常使用年限可達5年以上。
個(gè)性化定制:耐磨涂層顏色多樣,可滿(mǎn)足不同領(lǐng)域和個(gè)性化定制加工需求。
應用廣泛:PVD涂層技術(shù)已廣泛應用于不銹鋼制品、精密機械零配件、新能源汽車(chē)配件、自動(dòng)化裝備、醫療機械等領(lǐng)域。
環(huán)境友好:PVD工藝對環(huán)境無(wú)不利影響,符合現代綠色制造的發(fā)展方向。
提高性能:經(jīng)過(guò)涂層處理后的工具和精密元件,其性能將提高幾個(gè)數量級,如實(shí)現更高的性能、延長(cháng)使用壽命、降低潤滑劑消耗等。
綜上所述,PVD涂層技術(shù)真空鍍膜具有獨特的流程原理和顯著(zhù)的特點(diǎn),使其在多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應用。
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